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近日，工信部发布了一则重磅消息：中国的国产光刻机在技术上实现了突破，成功攻克了8纳米及以下的制程难关。这一消息不仅打破了外界对中国半导体产业的质疑，也标志着中国光刻机研发迈出了坚实的一步。